随着我国的发展，各种辐射与电磁干扰对我们生活与工作造成了一定的影响，所以屏蔽箱现在成为了相当多企业不可缺少的测试设备之一。屏蔽箱被各类企业广泛使用，但其实屏蔽箱在屏蔽技术方面也是有许多区别的。那么屏蔽箱的技术如何分类呢?今天东莞以恒电子的工作人员为大家介绍：
1、使用不同的屏蔽材料：
① 屏蔽箱机体材料大多使用的都是良导体，如铜、铝等，可以屏蔽电场，这类屏蔽箱的技术原理是将信号反射而不是吸收。
② 屏蔽磁场就需要用到铁磁材料，如高导磁率合金和铁。这类材料的屏蔽原理就是吸收信号面不是反射了。
③ 在一些强电磁环境中，需要能够将电场和磁场都屏蔽掉的材料，因此需要结构上完好的铁磁材料。这类屏蔽箱的屏蔽效果和效率受到材料的厚度以及屏蔽箱设计优劣的直接影响。
④ 塑料外壳的屏蔽箱，一般会是屏蔽箱内部涂上屏蔽材料，形成屏蔽层，或者在屏蔽箱塑料外壳的生产过程中掺入金属纤维一类的屏蔽材料。
2、电磁场屏蔽
电磁场屏蔽是利用屏蔽体阻止电磁场在空间传播的一种措施。
A、电磁场屏蔽的机理：
① 当电磁到达屏蔽体表面时，由于空气与金属的交界面上阻抗的不连续，对入射波产生的反射。这种反射不要求屏蔽材料必须有一定的厚度，只要求交界面上的不连续。
② 未被表面反射掉而进入屏蔽体的能量，在体内向前传播过程中，被屏蔽材料所衰减。也就是所谓的吸收。
③ 在屏蔽体内尚未衰减掉的剩余能量，传到材料的另一表面时，遇到金属—空气阻抗不连续的交界面，会形成再次反射，并重新返回屏蔽体内。这种反射在两个金属的交界面上可能有多次的反射。总之，电磁屏蔽体对电磁的衰减主要是基于电磁波的反射和电磁波的吸收。
B、吸收损耗：不同的材料、不同的材料厚度对于电磁波的吸收效果不一样，可根据材料吸收损耗的列线图得出。
C、反射损耗：分为三类：低阻抗磁场、高阻抗电场、平面波场。
其中低阻抗磁场和高阻抗电场的反射损耗列线图计算方法相同，与金属材料、辐射源到屏蔽体的距离有关。对于平面波，波阻抗为一常数，而与辐射源到屏蔽体的距离无关，在列线图中只需连接金属材料和感兴趣的频率就可求出此时的反射损耗值。
3、电场屏蔽
磁场屏蔽通常是指对直流或低频磁场的屏蔽，其效果比电场屏蔽和电磁场屏蔽要差的多。
A、屏蔽机理：主要是依靠高导磁材料所具有的低磁阻，对磁通起着分路的作用，使得屏蔽体内部的磁场大为减弱。
B、设计要点：
① 选用高导磁材料(如坡莫合金)减小屏蔽体的磁阻;
② 增加屏蔽体的厚度，减小屏蔽体的磁阻;
③ 被屏蔽的物体不要安排在紧靠屏蔽体的位置上，以尽量减小通过被屏蔽物体内的磁通;
④ 注意屏蔽体的结构设计，凡接缝、通风空等均可能增加屏蔽体的磁阻，从而降低屏蔽效果。
⑤ 对于强磁场的屏蔽可采用双层磁屏蔽体的结构。对需要屏蔽外部强磁场的，则屏蔽的外层选用不易饱和的材料，如硅钢：而内部可选用容易达到饱和的高导磁材料，如坡莫合金等。反之，如果要屏蔽内部强磁场时，则材料的排列次序要倒过来。在安装内外两层屏蔽体时，要注意彼此间的绝缘。当没有接地要求时，可用绝缘材料做支撑件。若需接地时，可选用非铁磁材料(如铜、铝)做支撑件。
以上屏蔽箱的技术如何分类就介绍到这里了，由于采用不同的屏蔽技术的屏蔽箱它们的价格也是存在一些差异的，我们可以根据自身的实际需要来选择最适合自己的屏蔽箱。
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